Seria RE de la Hycontrol este un transmitator radar FMCW 24 GHz cu doua fire, conceput special pentru aplicatii cu lichide corozive si vascoase. Masoara continuu, fara contact, distanta, nivelul si volumul lichidelor si pastelor, inclusiv in rezervoare agitate si medii agresive.
Pentru substante toxice sau agresive, RE poate fi echipat cu bariera de etansare Metaglas®, oferind protectie suplimentara pentru componente sensibile expuse in medii extreme.
Seria RE functioneaza in conditii de proces de pana la +200 °C (392 °F) si presiuni de pana la 100 bar (1450 psi).
Dispune de sistem de decuplare rapida care permite indepartarea corpului electronic sub conditii de proces, comunicatie HART®7 si iesire 4–20 mA.
Carcasa din aluminiu sau inox (316L)
Iesire 4–20 mA & HART®7
Domeniu de masurare: pana la 100 m (328 ft)
Temperatura maxima proces: +200 °C (392 °F)
Antena tip horn sau drop (PEEK/ PTFE), adaptata pentru medii agresive
Bariera de etansare Metaglas® optionala pentru lichide toxice / agresive
Sistem de decuplare rapida sub conditii de proces
LCD mare, iluminat din spate
Acuratete ± 2 mm (0,08”)
Functie „Empty Tank Spectrum” pentru eliminarea ecourilor false
Alimentare doua fire (loop-powered)
Domeniu de masurare: 0 – 100 m (328 ft)
Acuratete: ± 2 mm (0,08”)
Temperatura maxima proces: +200 °C (392 °F)
Presiune proces: pana la 100 bar (1450 psi)
Temperatura ambientala: –40 °C pana la +80 °C (tipic)
Protectie la intrare (Ingress Protection): IP66 / IP68
Optiune ATEX: Da (versiuni pentru zone periculoase)
Conectare proces: filet, flansa, extensii de antena posibile
Alimentare: 12–30 V DC (versiune non-Ex) / 16–36 V DC (versiune Ex)
Masurarea nivelului lichidelor corozive din industrii chimice si procesare agresiva
Rezervoare agitate, reactoare care contin acizi, baze sau alte substante agresive
Procese unde contactul direct sau uzura antenei trebuie evitat
Lichide toxice sau periculoase care necesita bariera suplimentara de protectie
Atmosfere cu cerinte de siguranta, zone periculoase (versiuni ATEX)
Aplicatii care necesita decuplare rapida sub conditii de proces